10月31日，3044am永利集团3044noc第67期国际经贸论坛于中心校区知新楼B322举行，中央财经大学创新发展学院中国经济与管理研究院助理教授明洋博士受邀作题为“Timing and Quality of Innovation: Evidence from 1986 U.S.-Japan Semiconductor Trade Conflict”的学术报告。讲座由3044am永利集团3044noc国际经济与贸易系主任随洪光主持，学院部分师生参会。

报告探讨了1986年美日半导体贸易冲突对美国半导体企业研发表现的影响。研究发现，在短期的保护政策下，美国半导体企业的研发产出质量有所下降，而保护政策解除后，企业的研发表现显著改善。明洋博士提出，保护政策在短期内激励了企业追求快速创新，以牺牲质量换取更快的收益，从而导致创新质量下降。该研究采用DID模型，通过比较政策实施前后的研发回报率（RRD）来验证这一理论。实证结果显示，在保护解除后，美国半导体企业的研发回报率显著提高，这一变化并非仅由研发投入的变化所致，而是反映了企业研发项目选择的质量提升。同时，该研究进一步测试了理论预测，通过参数和非参数方法验证了短期保护政策驱使企业从长期创新项目转向短期创新项目的假设。不仅为探讨竞争与创新之间的关系提供了新见解，还通过分析政策变动对企业研发策略的影响，揭示了保护政策在企业创新质量上的潜在负面作用。报告进行过程中，明洋博士就数据样本、模型构建、指标测度等相关问题与参会师生进行了深入探讨和交流。

明洋，中央财经大学创新发展学院中国经济与管理研究院助理教授，博士毕业于波士顿大学，研究方向为经济增长和企业研发创新活动。

图/文/刘鑫鹏